精度。
然而这也有一个缺点，之前1:1投射的光刻机，光源会直接将整块晶圆都笼罩在其中，所以放置晶圆的工件台都是固定的。
但第四代光刻机，由于电路图案通过光学系统缩小，所以直接照射在晶圆上一小块区域，这就导致放置晶圆的工件台需要不停移动，才能把整片晶圆都利用完。
所以第四代光刻机需要非常精密的步进电机，还有精密的光学精缩系统。
许阳虽然能设计出一款先进的步进电机，但这年头可没有数控机床，想要生产出来只能手工制作各种零件，而且时间也需要很久。
至于光学精缩系统，系统奖励的图纸上倒是有，许阳只要给出相应的尺寸，就能将各种镜片磨出来。
不过有镜片还不行，还需要经过复杂的调试。
这也需要花费非常长的时间。
综合考虑之下，许阳打算先将第三代投影光刻机弄出来，然后再利用这种光刻机，生产出一批性能还算过得去的芯片。
像这种第三代投影光刻机，精度完全依赖于掩膜版，而掩膜版理论上精度最高能达到1微米。
当然，这只是理论上。
1978年intel研制的8086处理器，就是用第三代投影光刻机制造出来的，它的精度达到了3微米，基本上已经达到了极限！
许阳皱着眉头，拿着笔画着光刻机图纸，首先是光源，毫无疑问是使用高压汞灯。
高压汞灯并不罕见，1906年就研制出来了，作为照明工具。
国内虽然从62年才研制出高压汞灯，但作为常用的照明工具，许阳想要买到高压汞灯并不困难。
高压汞灯能释放出紫外线，哪怕直到八九十年代，依旧是光刻机常用的光源之一。
而光学系统则是两块反射镜，只要计算出具体的尺寸，就能通过人工磨制出来。
其他就没有什么难度了。
当然，仅仅有了光刻机还不行，还需要生产晶圆的单晶炉，与紫